ENTEGRIS過程監(jiān)控器SemiChem APMi 200

以耐用、可靠的在線平臺提供實驗室質(zhì)量測量。Entegris 是設計和生產(chǎn)用于半導體制造工藝中的化學機械研磨 (CMP) 漿料和配制清洗劑的高精度分析儀器的市場供應者。我們的技術旨在確保復雜混合化學藥劑的準確一致性，并實現(xiàn) CMP 和配制清洗工藝的高產(chǎn)率。我們的 SemiChem 高等級工藝監(jiān)控器（APM）是一種濕化學監(jiān)控系統(tǒng)，可自動采樣、分析和報告關鍵工藝的定量化學濃度。完整的在線化學監(jiān)測可實時修正槽液成分，從而穩(wěn)定控制工藝條件。該系統(tǒng)可提供化學濃度數(shù)據(jù)。當變化立即顯現(xiàn)時，可能對產(chǎn)品質(zhì)量產(chǎn)生負面影響的變化可以迅速得到糾正，從而幫助滿足零缺陷容忍度和更高產(chǎn)品產(chǎn)量的要求。

提供業(yè)界準確的監(jiān)測，以保持工藝化學成分和完整性

在產(chǎn)品質(zhì)量下降之前檢測揮發(fā)性化學物質(zhì)的工藝偏差

將實驗室技術轉化為工藝，實現(xiàn)快速準確的工藝控制

平均故障間隔時間 (MTBF) > 8500 小時

提供化學濃度數(shù)據(jù)，使?jié){料/化學品分配系統(tǒng)能夠提供準確的化學濃度

多個采樣點、附加 5 毫升數(shù)字滴定管、附加傳感器、聯(lián)鎖、試劑低濃度檢測

產(chǎn)地：美國

分析方法：電位計法、標準添加法、光度法

電位計精度：顯示值的± 0.2

標準添加精度：± 2.0 %示值

電位計精度：± 0.2 % 相對誤差

標準添加精度：± 2.0 % 相對誤差

測量時間：> 5 分鐘/分析（視應用而定）

校準間隔：啟動時

樣品消耗量：< 5 mL/次分析

樣品量：0.05 至 5 mL（根據(jù)應用而定）

樣品溫度：高達 93 °C (200 °F)

耗水量：< 1000 mL/分析

樣品入口/回流：<207 kPa (30 psi)，0.5 L/min；1/4" 外徑擴口接頭，1" FPT 密封接頭

去離子水：138 至 276 kPa (20 至 40 psi)；2.0 L/min；1/4" 外徑擴口接頭

CDA：414 至 552 kPa（60 至 80 psi）；1/4 英寸外徑快速接頭

排水口 工藝：3/4 英寸 NPT 重力排水口；櫥柜：1/2 英寸 NPT 重力排水口

電源：110/220 VAC，50/60 Hz，1/0.5 A 現(xiàn)場可切換

排氣：1-7/8" OD @ 17 CFM

用于控制金屬 CMP 濃度、在微電子環(huán)境中的所有濕化學應用中均表現(xiàn)良好，包括：銅、鎢、阻擋層和金屬 CMP、配方清潔、DSP+、濕蝕刻、氮化物蝕刻、PAN 蝕刻、Piranha 蝕刻、高頻、廢水